石英玻璃在半导体工业设备上，使用温度经常在1000℃到1300℃之高温状态，在此种状态下由于附著不纯物导致失透现象发生，失透之部分为石英之晶质化，晶质化之变态点为275℃，当石英玻璃自高温降自此变态温度时，表面失透之晶质化部分与石英玻璃本身高温之α相与低温之β相间膨胀系数不同在急速冷却下产生不透明之剥离状更严重时会造成破裂现象产生。
为使石英制品能使用更久，就必须注意防止造成石英失透产生的原因，而造成失透的污染源就属碱金属、碱土金属、汗水、口水、油污、尘埃……等等。
且0.1mg/cm2l}k就会造成数十倍或数百倍的失透量。因此，防止这些污染源附著在石英表面上除了不直接用空手去拿石英外，使用在高温作业之前必先做清洗之工作以确保石英表面之洁净度。一般石英之洗净须要一些程序首先用纯水先冲洗表面，再置入酸洗槽内浸泡一些时间，取出后再用纯水冲洗后晾干。
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